Multi-Project Wafer Runs und dedizierte Wafer Runs für Transistoren und Integrierte Schaltungen (ICs)
Auf der Basis seiner epitaktischen und technologischen Möglichkeiten bietet das Fraunhofer IAF elektronische Multiprojekt Wafer Runs (MPW) und ganze Maskenprozessierungen für externe Kunden an. Sowohl Front- als auch Rückseitenprozessierung ist möglich. Die Runs werden regelmäßig im Rhythmus von etwa vier Monaten angeboten. Weiter Informationen zu den genannten Run-Zeiten geben wir gerne.
Die IC-Entwürfe werden dabei auf Vier-Zoll-Wafern prozessiert inklusive aller Prozessschritte, des vollen Rückseitenprozesses, der Messtechnik, der Inspektion und Vereinzelung. Die Entwurfsarbeiten können auch am Fraunhofer IAF beauftragt werden.
Der Zugang wird nach Abschluss eines NDAs und der Prüfung der Verfügbarkeit und Absprache der zu entwerfenden ICs durch Prozess Design Kits (PDKs) in der Keysight Entwurfsumgebung ADS unterstützt.