ASCENT+ startet transnationalen Zugang zur europäischen Nanoelektronik Infrastruktur

28.01.2021 / ASCENT+ startet den transnationalen Zugang für die Nanoelektronik-Forschungsgemeinschaft zu wichtigen europäischen Instituten

Forscher auf der ganzen Welt können nun durch ASCENT+, ein von der EU finanziertes Programm, Zugang zu führenden Instituten für Nanotechnologie und Mikro-/Nanoelektronik erhalten, um sich mit neuen Forschungsherausforderungen auseinanderzusetzen. Dieses »Transnational Access (TA)« Programm bietet kostenlos Zugang und Expertise an Partner-Forschungsstandorten, um den Forschungs- und Innovationspfad sowohl für akademische als auch industrielle Forscher zu verbessern.

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Das Fraunhofer IAF bringt seine hochmoderne Forschungsinfrastruktur auf dem Gebiet der nanostrukturierten Verbindungshalbleiter und Bauelemente aus synthetischem Diamant in das Netzwerk ein.

ASCENT+ bietet Europa die einmalige Gelegenheit, die weltweite Führung in der Nanoelektronik zu einem entscheidenden Zeitpunkt wiederzuerlangen, an dem sich der Horizont über das »Moore’s Law« hinaus erweitert. Giorgos Fagas, Leiter von ASCENT+ von dem Tyndall National Institute, sagt: »Unser transnationales Zugangsprogramm hat die Ambition, das Powerhouse der nächsten Nanoelektronik Ära zu werden, das Demonstrationen vorantreibt: Quantenvorteil durch  Festkörperplattformen; energieeffiziente Hochleistungsrechner mit geringem Stromverbrauch; energieeffizientes Hochleistungs-Computing auf der Basis bahnbrechender Bauelemente; und erhöhte Funktionalität durch fortschrittliche Integration einer Vielzahl von Materialien und innovativen Technologien. ASCENT+ bietet eine beispiellose Zugangsmöglichkeit für Anwender, die damit die Möglichkeit haben, auf diese neuen Probleme zu reagieren und Wissen und Technologie voranzutreiben, indem neue Ergebnisse generiert und Talente in ihren eigenen Laboren gefördert werden.«

Forschungsinfrastruktur am Fraunhofer IAF

Das Fraunhofer IAF bringt seine hochmoderne Forschungsinfrastruktur auf dem Gebiet der nanostrukturierten Verbindungshalbleiter und Bauelemente aus synthetischem Diamant in das Netzwerk ein. In diesem Bereich betreibt das IAF mehrere Reaktoren zur chemischen Gasphasenabscheidung von Diamant. Die Homoepitaxie wird durchgeführt, um Diamantschichten mit höchster Reinheit und definierter Dotierstoffkonzentration zu erhalten. P-Typ (B-dotiert) und n-Typ (P-dotiert) Schichten sind ebenso verfügbar wie N-Dotierung für Quantentechnologien mit NVs. Es wird Poly- und nanokristalliner Diamant auf Wafer-Scale-Ebene gezüchtet. Für weitere Prozessschritte stehen für die trockenchemische Diamantstrukturierung Lithographie- und Ätzanlagen zur Verfügung, und für die Vorbereitung der Diamantsubstrate Polieranlagen und Laserschneider.

Weitere Informationen

ASCENT+ Projektsteckbrief

Mehr zum Projekt und der Beteiligung durch das Fraunhofer IAF erfahren Sie hier:

Quantensysteme am Fraunhofer IAF

Alle Informationen zur Forschung im Bereich der Quantensysteme am Fraunhofer IAF finden Sie hier:

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