Materialanalytik für Halbleiter

Materialanalytik für Halbleiterschichten und Heterostrukturen

Das Fraunhofer IAF verfügt über eine Reihe analytischer Verfahren zur chemischen und strukturellen Charakterisierung von Volumenhalbleitern, Halbleiterheterostrukturen sowie Dünnschichtsystemen. Diese werden ergänzt durch optische Analysetechniken.

  • Hochauflösende Röntgendiffraktometrie (HRXRD) an dünnen Schichten
  • Röntgenreflektometrie (XRR)
  • Röntgen µ-Computer-Tomographie (Röntgenmikroskopie)
  • Sekundärionen-Massenspektrometrie
  • Photolumineszenzspektroskopie
  • Spektroskopische Ellipsometrie